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XUV mirror和X-ray chart产品培训

发布时间:2022-05-05阅读次数:300次

2022年4月,恩梯梯尖端技朮株式会社NTT Advanced Technology Corporation (下面简称:NTT-AT)与武汉东隆科技有限公司(以下简称“东隆科技”)正式签订代理合作协议以来,东隆科技陆续开展了XUV mirror和X-ray chart产品的市场推介活动和产品培训活动。

今日,来自技术部的资深工程师王工,针对NTT-AT公司、XUV/EUV/X射线的应用进行了全员培训。本次内训会主要围绕NTT-AT公司介绍、XUV/X射线应用概述、XUV/EUV反射镜原理及应用、X射线图原理及应用展开。具体的培训内容请参见下文:

1

NTT-AT公司介绍


2

XUV/X射线应用概述


3

XUV/EUV反射镜原理及应用



XUV MLM多层膜技术:

多层膜反射镜:

• 光从低折射率进入高折射率介质,相位变化180度——反相

• 光从高折射率进入低折射率介质,相位不变

• 先高后低的多层膜使每层反射光都是同相位(与入射光反相)干涉后增强


XUV MLM多层膜反射镜

• 轻重元素周期性多层膜:Mo/Si、Ru/Si、Zr/Al、SiC/Mg、Cr/C

• 调节d1 / d2膜厚比,可消除高次谐波及提高能量分辨本领

• 周期性膜厚d=d1+ d2 ,7nm@SiC/Mg



Mo/Si多层膜XUV反射镜

钼/硅 13.5nm ——最常用的XUV反射镜:

• 具有接近13纳米(90电子伏)波长的高反射率

• NTT-AT的Mo/Si镜高达70%的正入射反射率

• 带宽Δλ = (ΔE / E)λ



高反、窄带、宽带XUV反射镜(下面为部分型号举例)



多层膜XUV反射镜应用

• 13nm EUV光刻、等离子体物理:高反Mo/Si,宽带Ru/Si

• 倍频基频分光、天文学:>17nm, 窄带45度Zr/Al-Si、SiC/Mg

• 阿秒科学:宽带Mo/Si

• 转向镜、聚焦镜、反射偏振片:8-12nm,45度 Ru/B4C

• 耐高温、高耐用性、史瓦西光学系统和泵浦探测光学系统可定制



掠入射超环面反射镜

• 掠入射反射镜可用于高能X射线和宽带XUV光源的转向和聚焦:K-B反射镜、沃尔特反射镜(椭球面)

• 定制化椭球反射镜和超环面反射镜可用于阿秒光谱成像以及其他XUV应用



NTT-AT XUV反射镜的应用实例

• Mo/Si多层膜XUV反射镜

日本量子与放射科技所用Mo/Si镜分光监测13.9 nm激光EUV光刻强度(https://link.springer.com/chapter/10.1007/978-3-030-35453-4_9)


合肥等离子体物理所和中科大EAST团队用Mo/Si镜制作史瓦西(施瓦兹希尔德)望远镜,应用于超导托克马克中的VUV真空紫外高速成像系统(https://aip.scitation.org/doi/pdf/10.1063/1.4991856)


• 多层膜XUV反射镜倍频基频分光

佛罗里达大学Yb:KGW放大器的高次谐频产生至21.8eV(57nm)(https://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/1.5121425)

4

X射线图原理及应用


X射线图原理

• X射线分辨率评估图基于Ta钽吸收体图的SiC膜极其精确,20nm/50nm/100nm

• 能为用户的X射线显微镜(TXM)等分析系统评估提供清晰的西门子星等图像

NTT AT X射线分辨率评估图优点与应用

★ NTT AT的X射线图,钽线Ta(点)吸收型芯片10毫米×10毫米,20nm/50nm/100nm最小分辨率

★ 相比别家的X射线图,NTT AT的X射线图的最大特点是高耐X射线辐射性、超清晰图案和低边缘粗糙度。

★ X射线分辨率评估图——X射线分析仪器的超高分辨率标准,被应用于:

• X射线显微镜

• X射线微光束分析

• X射线成像等



NTT AT的XRESO X射线图应用实例

• 上海应用物理所用于实现TXM X射线显微镜的100nm分辨率成像(https://doi.org/10.1017/S1431927618013387)



• 上海复旦大学与应用物理所上海同步辐射装置 (SSRF) 中50 nm分辨率X射线成像(https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1674-1056/ab7800)

• 德国DESY同步辐射加速器研究所用XRESO西门子星实现纳米聚焦SiC 平面折射透鏡的制造与测试

(https://opg.optica.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-29-9-)



NTT-AT公司于1976年成立于日本东京。从事X线,极端紫外线等光学配件的销售多年。众多研究者共同在研究开发中积累的设计、制造技术在辐射光科学,阿秒科学,高强度物理学等众多领域享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有高分辨率,高聚光效率,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率评价图被作为业界的标准,不只是学术研究,在X线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有着重要作用。NTT-AT不仅仅提供元件,还提供光学系统。NTT-AT在XUV、EUV、X线领域给予了客户在研发上最大的支持和帮助,助力于客户解决更多的科研需求。


东隆科技创立于1997年,坐落于著名的武汉·中国光谷的核心区。东隆科技一贯秉持“服务创造未来”的宗旨,为客户提供迅捷的高品质服务和技术支持,倍受广大客户信赖。同时,我们与各大厂商还建立了全面深入的合作关系,并联合成立技术服务中心。经过近二十多年的发展,我们已拥有一批专业的技术人才,能够有效地针对客户需求提供专业的产品服务和技术解决方案,力争以最经济、最有效的方式满足客户的应用需求。

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