随着高速光通信发展，光器件种类多、迭代快，对测量仪要求更高。而在新兴平面光波导和硅光芯片领域，其对仪表测量精确性、稳定性和操作便利性等各方面提出前所未有的挑战。东隆集团专注于高端光学测量与传感测试系统研发和解决方案开发，拥有OFDR核心技术，并成功推出国产多功能光学矢量分析系统--OCI-V。

图1.光矢量分析系统（OCI-V）

OCI-V光学矢量分析系统，原理是采用线性扫频光源对待测器件进行扫描，并结合相干检测技术获取待测器件的琼斯矩阵，进而获得器件插损(IL)、色散(CD)、偏振相关损耗(PDL)、偏振模色散(PMD)等多项光学参数。系统测量长度200m，可工作在C+L或O波段，具有测量范围大、波长范围宽、覆盖器件广、测量参数多等优势。

比如在不同场景利用OCI-V测量，测出的数值都比较优秀，具体如下图所示：

HCN气体吸收室测量

图2.OCI-V测量HCN气体吸收室

HCN气室会对固定波长的光进行吸收造成损耗，OCI-V测量不同波段的光通过HCN气室后的损耗情况。

保偏光纤快慢轴时延差测量

图3.OCI-V测量保偏光纤快慢轴

保偏光纤快轴折射率小、光传输速度快，慢轴折射率大、光传输速度慢。OCI-V精确测量PMD对于评估光纤制备、光器件制造及光通信链路非常有意义。

图4.OCI-V测量FBG受压时偏振相关损耗

FBG在没有压力时中心波长附件光波段的PDL趋近于0，施加压力后中心波长附近两端出现两个峰值，随着压力逐渐增大，波峰峰值越来越大，在压力达到60KN时波峰出现最大值。

由此可看出，OCI-V光学矢量分析系统能够同时测量光学网络损耗、偏振、色散等信息，分析光器件在宽谱、精细波长下的损耗和时延。其功能强大、操作方便，在光器件的研发、生产全过程中发挥重要作用，为改善设计、优化结构和评估工艺等提供可靠依据。